周成刚，男，1978年8月生于安徽，中国科学技术大学高级工程师，主要从事微纳米加工检测技术及其学科交叉应用等方向的研究。2002年6月获中国科学技术大学学士学位，2007年6月获中国科学技术大学工学博士学位。2007年7月-2010年7月在上海科学院集成电路制造装备研究中心，历任系统工程师、主任助理和常务副主任，主持开展国内首台400nm无掩模光学光刻机的研制工作；2010年8月起就职于中国科学技术大学微纳研究与制造中心，担任副主任全面负责微纳研究与制造中心的洁净室及仪器建设、运行服务、人才培养、队伍建设、科研支撑等工作。
1997年9月－2002年6月，中国科技大学精密机械与精密仪器系,工学学士。 2002年9月－2007年6月，中国科技大学精密机械与精密仪器系,工学博士。
2007年7月－2010年7月，上海科学院集成电路制造装备研究中心，系统工程师、主任助理、常务副主任。 2010年8月至今，中国科学技术大学微纳研究与制造中心，高级工程师、副主任。 cheng mosong and zhou chenggang, optimizing photon sieves to approach fresnel diffraction limit via pixel based inverse lithography journal of vacuum science & technology b 29（4） 041002 2011.07 zhou chenggang， wangyingnan， chen yuhang， huang wenhao， alignment measurement of two-dimensional zero-reference marks, precision engineering, 2006, 30: 238-241
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